半导体行业再次掀起了地缘政治波澜。随着日本政府大幅加强对中国的光刻胶出口管制，分析认为韩国企业可能迎来意想不到的机遇。事实上，这种情况是中国最担心的情景之一。光刻胶是半导体制造过程中不可或缺的关键材料，而在这一领域，日本的技术实力和市场份额占据绝对优势。
深入分析光刻胶市场，全球市场规模估计约为45亿美元，其中日本企业占据的比例高达80%以上。东京应化工业（东京：4186）、信越化学（东京：4063）、JSR（东京：4185）等日本化学巨头几乎垄断了这一市场。尤其是在先进半导体制造所需的EUV（极紫外线）光刻胶方面，日本企业的市场份额据称超过90%。
此次日本加强出口管制之所以备受关注，是因为它针对的是可能对中国半导体崛起造成直接打击的关键材料。中国在存储器半导体和代工领域取得了显著成就，逐渐在全球半导体市场中扩大存在感。中国存储器企业如长江存储（YMTC）和长鑫存储（CXMT），以及代工企业中芯国际（SMIC）正在迅速缩小技术差距。
然而，无论半导体制造技术如何发达，如果无法稳定供应光刻胶等关键材料，生产本身就无法进行。光刻胶是形成半导体电路图案的必需光敏材料，目前几乎没有可替代的材料或技术。尤其是在7纳米以下的先进工艺中更是如此。
韩国企业的机遇，但前路不易
在这种情况下，韩国企业无疑迎来了机遇。东进半导体材料（KOSPI: 005290）已经在光刻胶领域拥有相当的技术实力，并向国内半导体企业供应。公司表示，截至2024年，光刻胶销售额占总销售额的约35%，今年以来来自中国客户的询问大幅增加。
SK材料（KOSPI: 036490）也是如此。该公司一直在扩大半导体专用气体和光刻胶业务。尤其是在ArF光刻胶领域，国内市场份额已上升至约20%。公司相关人士表示，“正在加速准备进入中国市场”，并“正在与多家中国半导体企业进行样品测试”。
Solbrain（KOSDAQ: 357780）则采取了不同的策略。该公司专注于开发光刻胶原料光敏剂，强化作为核心原材料供应商的定位，而不是成品供应商。事实上，日本主要光刻胶企业也从韩国采购部分原材料。Solbrain预计2024年销售中，中国市场的比例约为15%，今年可能增加至30%以上。
但坦率地说，韩国企业在短期内追赶日本的技术差距并不容易。光刻胶不仅仅是简单的化学材料，它需要几十年积累的经验和精密的质量管理。尤其是像EUV光刻胶这样的尖端产品，日本企业拥有的专利和技术壁垒相当高。
中国的应对策略与市场变化
中国也不会坐视不理。中国政府已经投入巨资推动半导体材料的国产化，光刻胶领域也不例外。北京科华和苏州瑞红等中国企业正在投入光刻胶开发，但技术水平仍远远落后于日本和韩国。
有趣的是，中国企业不仅专注于技术开发，还积极引进海外人才。实际上，从日本主要化学公司跳槽的研究人员越来越多，也有韩国企业出身的人才转投中国。
市场专家认为，此次日本的出口管制可能反而加速中国半导体材料自给率的提高。这与2019年日本对韩国半导体材料出口管制时的模式相似。当时虽然短期内对韩国半导体行业造成了巨大冲击，但长期来看却促使国内材料企业的技术开发和供应链多元化。
截至2025年12月，三星电子和SK海力士的核心半导体材料国产化率相比2019年大幅提高。在光刻胶方面，部分通用产品的国产替代品使用比例增加。虽然在尖端产品上对日本的依赖仍然很高，但技术差距确实在缩小。
我个人认为，此次事件对韩国材料行业来说无疑是一个机会。但不仅仅是考虑进入中国市场，更重要的是借此机会提升技术水平。毕竟中国一旦成功实现自主技术开发，海外依赖度将会降低。
值得关注的还有后成（KOSPI: 093370）。该公司传统上从事农药和医药业务，但近年来增加了半导体材料业务的比重。尤其是在光刻胶原料特殊化学品领域提升了竞争力，并正在为进入中国市场做准备。
最终，日本此次光刻胶出口管制不仅是简单的贸易争端，还可能成为改变全球半导体供应链格局的重要转折点。对韩国企业来说无疑是一个机会，但同时也要考虑中国的技术追赶和自身供应链建设的挑战。未来几年，这个市场将发生怎样的变化，值得我们密切关注。
本文是在阅读“中国担忧的最坏情景”……日本限制光刻胶，韩国反射利益“关注”文章后，加入个人意见和分析撰写的。
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